New-Tech Magazine | July 2017

ELECTRO OPTICS & CAMERA מוסף מיוחד

צילום מסך המציג פרמטרים .1 איור המוצגים VSF המשמשים לאיסוף ספקטרומי .Solis להלן, כפי שהוגדרו באמצעות תוכנת

. עבור מדגם Solis שנאסף בתוכנת VSF צילום מסך של ספקטרום .2 איור כויל לאורך הגל של X ). ציר Pt)100) נספג על משטח CO( אות ייחוס גבוה תדר הסכום.

שיטות מכיוון שההסתברות לפליטת פוטון בתדירות מזו של פיזור אור ליניארי, 10 -7 הסכום היא כ- נדרשים שדות פוגעים של לייזר פולסים (עם הספק שיא גבוה) וזיהוי רגיש. עבור המצב הראשון נשתמש במערך לייזר המבוסס על מגבר טיטניום ספיר הזמין מסחרית, ומתואר במלואו על ידי טונג ואח'. Shamrock עבור המצב השני נשתמש בשילוב של Newton emCCD DU 971 P - BV ו- SR -303 i - B פיקסלים, תאורה אחורית), המופעלים 1600 x 400( .1 בפרמטרים המוצגים באיור הנפלט VSF לפני הכניסה לספקטרומטר, אור ה- ממוקד במישור המקביל לשולחן האופטי. לאחר הפיזור, האות מופיע כפס במצב תמונה. אחסון כל עמודה מעל גובה הפס נותן ספקטרום כפונקציה של מספר הפיקסל. לאחר מכן מכויל מספר הפיקסל באופן ישיר לתדירות של אור ), ובהינתן 2 תדירות הסכום שזוהה (ראה איור הידע של ספקטרום השדה הנראה, לתדירות האינפרה אדום הפוגעת. תוצאות בתוך הגביש הוא סימטרי בהיפוך. -Al 2 O 3 כתוצאה מכך אין מצבי סריג שהם גם אינפרה פעילים VSF אדום וגם פעילי רמאן: אין מצבי בפנים הגביש. עבודה חישובית קודמת ועקיפת קרני רנטגן המבוססת על סינכרוטרונים מעידות על כך שהמשטח היציב תרמודינמית של ה- , 1-Al במצב ריק הוא המצב שנקרא AI 2 O 3 )0001)

AI 3 )0001) באזור התדירות הנמוכה של משטח VSF ספקטרומי .3 איור ולמשטחים הממולאים במים שנאספו בזווית אזימוטית אפס. UHV- המוכן ל הקווים המלאים מתאימים לנתונים באמצעות מודל צורת הקו המתואר בטונג .5' ואח 2 O

ואילו לאחר ספיחת מים דיסוציאטיבית, מתפתחת שכבת ממשק שעברה הידרוקסילציה, .) Al ) OH ( 3 שהיא שכבה אחת של גיבסיט (כלומר המעבר מסיומת יציבה תרמודינמית שעברה הידרוקסילציה לזו היציבה במצב ריק דורש הסרת מים ממשקיים ויחידת נוסחה אחת של . כאן ברצוננו לבדוק אם נוכל לראות את Al 2 O 3 החתימות ספקטרליות של שני חלקי קצה מבניים אלה בתגובה האופטית של הפונון המשטחי. , אנו רואים מאפיינים 3 כפי שמוצג בתרשים 700 - 1000 cm -1 ספקטרליים ברורים בטווח שעבר הידרוקסילציה AI 2 O 3 )0001) עבור משטח (הספקטרום של משטח UHV ומשטח סיומת הידרוקסילציה הוא תוצאה של התאבכות בין שני

מצבים בעלי סימטריות אזימוטיות שונות). סדרה של ניסויי בקרה (לפרטים ראה טונג ואח') מוכיחה כי האות הזה אינו נובע מזיהום פני השטח. הסימטריה של התגובה הספקטראלית, ביחס לקיטוב שדות האור ולזווית משטח הגביש ביחס למישור הפגיעה, מוכיחה כי שני האותות נובעים בבירור ממצבי פונונים. חישובי המבנה האלקטרוני (המפורטים בטונג ואח') מראים כי עבור שני המשטחים, מצבי התדירות הנמוכה יותר הם בעלי מקור משותף ומשקפים את רלקסציית פני השטח על פני מספר שכבות , שיא Al ממשקיות. עבור משטח הסיומת התדירות הגבוה יותר משקף תנודות של אטום המשטחי ואילו עבור משטחההידרוקסילציה Al ה-

New-Tech Magazine l 56